HI84100微電腦二氧化硫滴定分析儀快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。滴定范圍：0 to 400 ppm of SO2 。集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果。

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產(chǎn)品詳情

意大利哈納HANNA HI84100 微電腦二氧化硫滴定分析儀

HI84100微電腦二氧化硫滴定分析儀

HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將zui先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。

• 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果
• 人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	HI 84100
滴定范圍	0 to 400 ppm of SO₂
滴定方法	等電位氧化還原滴定法
滴定精度	讀數(shù)的5%
取樣量	50 mL
ORP電極	HI 3148B
供電方式	220V/60 Hz；10VA
使用環(huán)境	0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95%
尺寸重量	208 × 214 × 163 mm；2200 g